談到超聲波清洗機(jī)就會(huì)想到超聲波清洗機(jī)的功率和超聲頻率，超聲波清洗機(jī)的功率和頻率對(duì)超聲波清洗的效果都起著重要的作用，下面通海機(jī)械就給大家簡(jiǎn)單介紹一下這方面的知識(shí)。
功率和頻率。在超聲波精密清洗中，當(dāng)一定頻率的超聲清洗后達(dá)不到清潔的效果時(shí)，如果工件上要去除的雜質(zhì)顆粒較大，就可能是超聲波功率不足，一般增加超聲波功率就可解決該問(wèn)題;但相反的如果工件上要去除的雜質(zhì)顆粒非常小，那么無(wú)論功率怎么增大，都無(wú)法達(dá)到清潔的要求。原因在于：當(dāng)液體流過(guò)工件表面時(shí)，會(huì)形成一層粘性膜。低頻時(shí)一般該層粘性膜很厚，小顆粒就埋藏在里面，無(wú)論超聲波的功率(強(qiáng)度)多大，空化氣泡都無(wú)法與小顆粒接觸，故無(wú)法把小顆粒徹底除去;而當(dāng)超聲波頻率升高時(shí)，粘性膜的厚度就會(huì)減少，超聲波產(chǎn)生的空化泡就可以接觸到小顆粒，將它們從工件表面剝落。所以，低頻的超聲波清除大顆粒雜質(zhì)的效果很好，但清除小顆粒雜質(zhì)效果就很差。相對(duì)而言，高頻超聲對(duì)清除小顆粒雜質(zhì)就特別有效。超聲波頻率的選擇：
一般的來(lái)講，清洗五金、機(jī)械、汽摩、壓縮機(jī)等行業(yè)的清洗多采用28KHZ頻率的清洗機(jī)。光學(xué)光電子清洗、線路板清洗等多采用40KHZ的頻率，高頻超聲清洗機(jī)適用于計(jì)算機(jī)，微電子元件的精細(xì)清洗，兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)清洗件沒(méi)有任何損傷。而對(duì)于一些精密清洗(如液晶體、半導(dǎo)體等)的應(yīng)用上，使用傳統(tǒng)的頻不但沒(méi)法達(dá)到清洗的要求，而且還可能造成工件的損傷。最典型的例子就是關(guān)于軍用電子產(chǎn)品，行業(yè)已明文規(guī)定不允許使用傳統(tǒng)的頻率(20~30KHz)的超聲波清洗機(jī)。其實(shí)在一些歐美、日本等發(fā)達(dá)國(guó)家，已通過(guò)選用高頻清洗機(jī)(80KHz或以上頻率，有的已經(jīng)達(dá)到200K或400K)使這個(gè)問(wèn)題得到了解決。
超聲波功率的選擇：
當(dāng)聲強(qiáng)增加時(shí)，空化泡的最大半徑與起始半徑的比值增大，空化強(qiáng)度增大，即聲強(qiáng)愈高，空化愈強(qiáng)烈，有利于超聲波清洗作用。但不是超聲波聲功率越大越好，聲強(qiáng)過(guò)高，會(huì)產(chǎn)生大量無(wú)用的氣泡，增加散射衰減，形成聲屏障，同時(shí)聲強(qiáng)增大也會(huì)增加非線性衰減，這樣都會(huì)削弱遠(yuǎn)離聲源地方的清洗效果。所以，超聲波清洗的效果不一定于與所加功率和工作時(shí)間成正比，有時(shí)用小功率花費(fèi)很長(zhǎng)時(shí)間也沒(méi)有清除污垢，如果功率達(dá)到一定數(shù)值，則有可能很快將污垢去除。若超聲波功率太大， 這時(shí)液體中空化強(qiáng)度大大增加，較精密的零件將產(chǎn)生蝕點(diǎn)，水點(diǎn)腐蝕也增大，如果振動(dòng)板表面已受到空化腐蝕，強(qiáng)功率下水底產(chǎn)生空化腐蝕更嚴(yán)重，使設(shè)備壽命降低，造成不必要的損失，同時(shí)清洗缸底部振動(dòng)板空化也十分嚴(yán)重，使缸的壽命縮短。
但超聲波清洗功率選擇小了，花費(fèi)很長(zhǎng)時(shí)間也沒(méi)有清除污垢，也是不可取的。常規(guī)的超聲波清洗在工業(yè)當(dāng)中，標(biāo)準(zhǔn)型超聲波清洗機(jī)從100W至1500W不等，工件有多大，在考慮清洗節(jié)拍的前提下，由超聲波清洗槽體的大小決定超聲波的功率。鑒于 目前混響場(chǎng)聲強(qiáng)測(cè)量的技術(shù)尚不夠成熟，目前還是用單位面積上的功率來(lái)進(jìn)行設(shè)計(jì)，一般一臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)超聲清洗機(jī)輸出功率密度大多選在0.3～0.6 瓦/平方厘米左右，當(dāng)然了，這只是常規(guī)情況。
綜上所述，超聲波清洗機(jī)的功率和頻率選擇也至關(guān)重要。
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